在日本，纳米压印被定位为后EUV时代的补充技术。2025年8月，璞璘率先交付了中国首台半导体级步进式纳米压印光刻系统PL-SR；到2026年6月，PL-AS又完成了从设备突破到工艺替代的进阶。真正重要的是，在国内晶圆厂长期受制于光刻机进口的背景下，纳米压印至少提供了一个“做得起、拿得到”的现实选项。
2026-06-21